二手 KARL SUSS / MICROTEC MJB-3 #9035395 待售

ID: 9035395
晶圓大小: 3"
Mask aligner, 3" Upgraded touch screen Mask holder, 2"-3" Front alignment Soft contact option Objectives: 2.5x, 5x, 20x, 32x Lamp: 200 W.
KARL SUSS/MICROTEC MJB-3 Mask Aligner是一種緊湊、高精度、全自動、微米級的對準設備,專為利用高分辨率光阻過程生產半導體器件而設計。它能夠在4 「x4」的區域上執行3 µm的重整精度和1-2 µm的覆蓋。該系統采用先進的激光自動對焦功能,在每次對準周期前檢測晶片和透鏡的確切位置,確保晶片對準定位的準確性和可重復性。MICROTEC MJB3 Mask Aligner設計用於處理深紫外線、電子束和離子束光刻的最大分辨率要求。KARL SUSS MJB3對準器利用步進電機和光桿驅動的步進重復組件,包括對縮放和鏡像的支持。由於配有一個電動晶片索引單元,便於晶片翻轉或基板交換,因此該對齊方式有助於加快處理時間並提高吞吐量。MICROTEC MJB 3掩碼對準器的控制單元由一個可方便操作和觀察機器的集成操作面板和一個IBM兼容的386 PC通過圖形用戶界面進行數據記錄和控制組成。PC和面板連接在一起,並與觸摸感應液晶顯示器和按鈕選擇工具連接。資產以獨立模式運作,也可與更大的過程控制模型整合。KARL SUSS MJB3 Mask Aligner采用雙軸微米級控制和檢流計驅動的激光控制,對準精度和準確性。該設備采用垂直和水平真空框架,用於掩蔽、掩模夾緊和基板固定,以及具有可調高度和力夾的模塊化基板夾具和掩模夾具組件。在MICROTEC MJB3系統的設計中加入了操作員安全,因為它具有防護屏蔽、鑰匙互鎖和安全互鎖。該裝置專為高效能耗而設計,最大額定功率為700瓦。95 cm x 65 cm的機器占地面積是任何半導體制造實驗室的理想選擇,其眾多集成功能使其成為一種流線型、用戶友好的工具,可用於精確和可重復的光刻。
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