二手KASPER / EATON / QUINTEL(光罩對準曝光系統)待售

KASPER、EATON、QUINTEL是知名的蒙版對齊器制造商，廣泛用於半導體工業的精密光刻工藝。掩模對齊器提供了將圖樣從光掩模傳輸到基板的關鍵功能。這些制造商提供了一系列具有先進技術能力的模擬物的掩模對齊器。掩模對準器配有高分辨率光學器件、精確對準級，以及提高準確性和可重復性的精密軟件。它們能夠處理各種基板，並具有易於操作的用戶友好界面。KASPER、EATON和QUINTEL掩模對準器的主要優點之一是能夠提供近距離曝光，確保高分辨率的圖樣具有出色的尺寸控制。它們還提供各種對齊方法,例如邊緣、背面和全局對齊,從而允許通用應用程序。例如，2001年，KASPER推出了Kasper Express 106掩模對齊器，提供了改進的工藝能力和提高的生產率。EATON推出了i-Line 4025蒙版對準器，它具有高精度對準系統和先進的曝光光學元件。同樣，QUINTEL推出了Q2048面罩對準器，配備了高分辨率對準顯微鏡和自動化工藝。總體而言,KASPER、EATON和QUINTEL掩模對齊器為半導體行業提供了精確光刻工藝的可靠和尖端解決方案,提供了一系列具有先進功能、眾多優勢和2000年代早期實例的類似物。