二手 M & R NANO TECHNOLOGY AG2000‐ 8NDSAV #293598392 待售

ID: 293598392
晶圓大小: 12"
優質的: 2010
Manual mask alignment machine, 12" 2010 vintage.
M&R NANO TECHNOLOGY AG2000-8NDSAV掩模對準器是一種高性能設備,用於將精細電路和光學電路的模式精確傳輸到半導體基板或晶圓上。此掩模對齊器的設計既方便用戶又具有成本效益。它利用先進的算法和軟件,讓用戶能夠快速準確地對齊電路模式,同時也監測對齊過程和結果。該AG2000-8NDSAV提供了最佳的精度,並允許陣列尺寸可達12 mm x 12 mm,對準可重復性為0.1微米。這使得它非常適合用於生產用於制造半導體集成電路和組件的基板。此機器使用x-y精細對齊軸來對齊陣列。該AG2000-8NDSAV采用先進的「Ganfure」投影鏡頭和高清相機系統。這一單元還結合了光刻光學和其他組件,使用戶能夠精確地對齊圖樣到基板上。圖樣對齊後,機器使用能量束將圖樣傳遞到基板上以創建圖樣。通過控制能量束的暴露面積和強度,該工具確保了圖樣的精確傳遞。該掩模對齊器還具有復雜的基板加熱資產,可確保晶圓溫度在整個光刻過程中保持一致。AG2000-8NDSAV的另一大特點是「自動采樣掃描」。此功能可確保模式在掃描整個基板時保持一致和均勻。該模型還具有易於使用的數據記錄過程,允許用戶存儲曝光數據並分析結果。此外,該AG2000-8NDSAV還具有強大的真空歧管設計,能夠更好地處理廢氣和提高能源效率。此外,這臺機器還包括一種高級編程語言,允許用戶輕松編程和自定義各種對齊設置。總之,M&R NANO TECHNOLOGY AG2000-8NDSAV掩模對準器是一種功能強大、經濟高效、用戶友好的設備,是生產復雜基板和集成電路的絕佳選擇。它為用戶提供了精確的模式對齊和舞臺快門控制,以及自動采樣掃描功能。此外,強大的真空歧管設計和數據記錄過程使這種掩模對齊器成為集成電路制造商的絕佳選擇。
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