二手 M & R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V #9191076 待售

M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V是一種高性能的掩模對齊器，用於生產大量精確度較高的半導體產品。此掩碼對齊器專為業界領先的過程靈活性和生產可擴展性而設計。它提供了廣泛的對準和曝光功能,可用於各種半導體技術,包括有源層圖樣、互連結構和設備級金屬化。在設計方面，NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V配備了保證高精度和吞吐量的3級廣域鏡頭和晶圓對準系統。這些調整系統可以微調任何尺寸產品的每個曝光作業的對齊方式。此外，掩模對齊器具有用於晶圓存儲和傳輸的大分區結構，有助於提供安全高效的生產過程。NANO TECHNOLOGY M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V還配備了一個旋轉面罩單元，可確保面罩的精確方向對準和曝光。這個單元可以被編程為精確定位，可以用來改變不同類型晶圓的曝光設置。此外,它還具有預先編程的分辨率和準確性程序,可確保每次曝光都正確完成。NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V還配備了自動口罩制備系統，提供高效的真空和氣體輸送到鈍化層以沈積抗蝕劑。該系統還可以執行一系列任務,例如光掩碼清洗和掩碼傳輸,以提高準確性。NANO TECHNOLOGY M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V還配備了高精度氣隙控制系統，允許暴露臨界層特征。這樣可以實現更好的工藝控制,並有助於確保大規模晶圓制造的質量。總體而言，AG359-6N-D-S-S-V是高端半導體產品生產的理想解決方案。從其設計特點和調整能力到自動口罩準備系統和氣隙控制系統，這種口罩對準器確保了高度準確和可重復的曝光結果。因此，它是任何現代半導體加工設施的寶貴資源。