二手 Mark Aligner System #9007724 待售
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ID: 9007724
晶圓大小: 8"
Mask Aligner / Exposure Tool, up to 8"
Substrate Size: Round or square
Mask size: 3"x3" up to 10"x10"
Exposure System
Lamp power: 350W, 500W, 1000W, 2000W, 5000W
Intensity (8" field @ 365nm): 20mw/cm2 (1000W), 40mw/cm2 (2000W)
Uniformity: Better than ±5%
Resolution: Proximity mode 3.0μm, Contact mode <1.0μm
Exposure Modes: proximity, soft, hard, vacuum
Exposure Gap: 1-1500μm
Gap Adjustment resolution: 1μm
Alignment System
Alignment Accuracy: 0.5μm topside, 1.0μm backside
Alignment Gap: up to 1500μm
Alignment Range (X,Y): ±3mm
Alignment Range (Ø): ±3o
Mechanical Resolution: 0.1μm
Alignment Microscopes
Microscope Type: Dual zoom, CCD TV camera
Magnification: Approx. 30X - 210X
Illumination: Solid state LED
Cost of Ownership
Throughput: >100wph
MTBF: >1500 hours
MTTR: <4 hours
Uptime: >95%
Consumables
Vacuum: 25"HG
Nitrogen: 20 PSI
Power: 208V, 60Hz, 20A, 3-phase
UV Lamps.
掩模對齊器Mark Aligner Equipment，通稱為System，是一種自動化的半導體製造機，用來定位和對齊光掩模以與基板對齊。它由三個主要組成部分組成：一個光源、一個成像標記對齊器單元和一個對齊階段。光源通常是UV燈，它照亮光掩模和基板，以便為成像機生成圖像。成像標記對齊器工具捕獲兩個對象的高分辨率圖像或視圖,然後將其用於對齊過程。對齊階段是電動機驅動的資產，它使用該圖像來精確、精確地對齊對象。它通常使用閉環標記對齊器模型,該模型可主動檢測任何未對齊的情況並對其進行校正。掩模對準設備用於制造集成電路（IC）的制造過程中。光掩模是包含集成電路圖樣的玻璃板，需要精確定位在晶圓上。掩模對齊器Mark Aligner System用於確保光掩模的位置和方向相對於晶圓本身是正確的。掩模對齊器還用於後續的計量和叠加測量，以確保IC的層已被精確對齊和陣列。為了實現精確的對準，Unit具有自動對焦、自動拆卸和自動安裝等多種自動化功能。自動對焦使用算法檢測每個圖像的焦點，然後相應地調整圖像，以最大限度地提高對齊精度。自動裂紋被用來維持光掩模和基板的對齊，即使在掩模被移動，以實現對齊。最後,使用autotilt來確保光掩模相對於基板始終保持相同的角度。總體而言,Mark Aligner Machine提供了很高的對齊精度,對於在集成電路生產中執行高質量的制造作業至關重要。
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