二手MECS(光罩對準曝光系統)待售

掩模對準器是用於制造半導體器件和微機電系統（MEMS）的關鍵工具。MECS是一家有信譽的制造商，生產高質量的掩模對齊器。這些對齊器被用於光刻過程，在這種過程中，一個光刻膠層通過一個掩模暴露在紫外線下，允許圖樣轉移到基板上。MECS掩碼對齊器有幾個優點。首先，它們提供精確的對齊和精確的模式傳遞，確保高質量的結果。對準器配備了先進的對準系統，能夠實現亞微米的對準精度。此外,它們還具有高分辨率的光學器件,允許使用精細的特征尺寸。MECS的一個值得註意的模型是UTC-OF250掩碼對齊器。這種對齊器以速度和多功能性著稱。它具有自動對齊系統,減少了對齊所需的時間並提高了總體生產率。UTC-OF250還具有極好的可調性，適合各種應用。另一個例子是MECS UTC-BF200掩碼對齊器,它以其高吞吐量能力而聞名。它提供了一個較大的接觸區域，使多個基板同時對準和暴露。此功能可提高制造過程的效率並降低成本。綜上所述，MECS掩碼對齊器因其精度、通用性和速度而受到追捧。MECS擁有UTC-OF250和UTC-BF200等模型，繼續為半導體和MEMS行業的光刻提供可靠和技術先進的解決方案。