二手 MIDAS MDA-12FA #9400525 待售

ID: 9400525
優質的: 2013
Mask aligner / Exposure system 2013 vintage.
MIDAS MDA-12FA是為晶圓級器件制造而設計的先進光刻掩模對齊器。它設計用於處理各種類型的晶片成形過程,包括高通量晶片級計量和晶片級封裝。設備能夠處理6英寸、8英寸、12英寸和15英寸的晶圓,可以精確對準50微米或更高分辨率。該系統由主機、光刻頭和舞臺機構組成。大型機包含電源表和操作控制系統,以及為機器組件供電的主電氣單元。光刻頭是工具最重要的部分,包含了一套高分辨率的光學器件和主級機構。光學器件用於精確調整掩模水平,從而確保整個晶片的均勻曝光。該級機構允許晶片和掩模沿著X和Y軸精確對齊。除了主框架和光刻頭,資產還包括一系列的工具,包括對準監視器和軟件。對準監視器用於測量晶片在模型中的精確位置。該軟件用於控制光刻過程的各個階段,包括光刻膠的濃度、曝光時間和聚焦水平。MDA-12FA被設計為與其他光刻系統和設施集成在一起,以便於訪問各種特征大小和復雜程度。該設備具有可調整以改善聚焦的特性,也可用於基板的高精度對準和成像。MIDAS MDA-12FA是一種先進的掩碼對齊器,可提供改進的晶圓級設備制造。它專為處理各種晶片成形過程而設計,具有高達50微米的精密對準能力。該系統易於與其他光刻系統集成,並提供了一系列有助於改善聚焦和成像特性的功能。
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