二手 MIDAS MDA-400M #9276070 待售

MIDAS MDA-400M
ID: 9276070
Mask aligner and exposure system Standard features: Manual control system GaAs Wafer sample size: 2"-3" Mask size: 4" x 4" System specification: Light source module UV Lamp power: 350 W Maximum UV light source: 350 nm to 450 nm Beam size: 4" x 4" Microscope: Dual CCD zoom microscope Manual moving stage: Dual X, Y, Z Axis Objective spacing: 60-150 Magnification: 80x-1,000x Stage and controller module Exposure timer: 0.1 sec to 999.9 Hours Resolution Utilities requirements: Power supply: 220 VAC, 15 Amps, Single phase with ground.
MIDAS MDA-400M是為精密光刻應用而設計的高級Mask Aligner。它是一款提供高分辨率成像能力和卓越性能的高端設備。該系統采用最新的掩碼對準技術和先進的軟件控制設計。MIDAS MDA 400 M利用顯微鏡單元在基板上放置圖樣。顯微鏡提供高達4 「x 4」的視場和高達50X的放大倍率。圖像在顯微鏡的幫助下顯示在液晶屏上,以便於圖樣查看和放置。此工具還提供了X-Y平面中≤2µm的對準精度。MDA-400M最突出的特點是成像速度高。資產可以在6分鐘平放時產生4 「x 4」的視場。此外,該型號還具有可調光束電流、可調聚焦深度、可調線距等特點。這使用戶能夠做出最優化的曝光,以實現所需的模式。該設備還設計有一個精密的自動聚焦系統,與顯微鏡單元結合使用,以實現極其精確的放置。該機還帶有改進的真空優化算法,以提高性能和提高分辨率。MDA 400 M還具有「陰影對齊」功能,可防止模式從所需的焦點區域移動。該工具還在掩碼數據輸入過程中提供了高度的可靠性。此外,該資產還具有易於使用的圖形用戶界面,可實現平穩高效的操作。總體而言,MIDAS MDA-400M是一款頂級的Mask Aligner機型,提供精確的陣列放置和出色的成像功能。其革命性的設計、先進的特性和高性能使其成為精密光刻應用的理想選擇。
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