二手 MIKASA ML-300LF #9362882 待售

ID: 9362882
Mask aligner Mask size: 250 mm x 250 mm (10" x 10") Substrate size: Minimum: 200 mm x 200 mm (8" x 8") Maximum: 300 mm x 300 mm (12" x 12") T: 0.7 to 1.5 mm.
MIKASA ML-300LF是一種經濟高效、精確的掩模對齊器。這臺自動化機器用於生產具有高度精確電路和模式的半導體晶片。這臺機器具有光刻技術,用於將圖樣從光掩模傳輸到晶圓上。ML-300LF利用紫外線使晶圓上的區域暴露於紫外線。然後將輻射聚焦到光掩模上,光掩模包含用於晶圓的電路模式。一旦輻射被聚焦在光掩模上,所需的電路模式就可以轉移到晶圓上。MIKASA ML-300LF還包括步進電機,用於在晶圓上移動掩模。ML-300LF具有精確的測量設備,可進行精確的對齊和對齊檢查。這樣可以確保蒙版在曝光開始之前處於正確的位置,並將所需的圖樣精確地傳遞到晶圓上。精密測量系統還包括一個顯示測量結果的數字顯示屏,以及一個內置的校準單元,便於調整和維護。MIKASA ML-300LF還配備了諸如紫外線屏蔽外殼和緊急停止開關等安全功能。紫外線屏蔽外殼保護操作員免受潛在有害的紫外線輻射,而緊急停止開關允許在緊急情況下立即關閉。總體而言,ML-300LF是一種高效、精確且經濟實惠的掩模對齊器,旨在生產高質量的半導體晶片。該機具有易於使用的數字顯示屏和內置校準機,以及紫外線屏蔽外殼和緊急停止開關等安全功能,以確保操作員的安全。MIKASA ML-300LF通過其精確的測量工具和精確的對準檢查,確保將所需的電路模式精確地傳遞到晶圓上。
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