二手NANO SYSTEM(光罩對準曝光系統)待售

NANO SYSTEM是納米加工工藝先進技術設備的領先制造商。其中一個值得註意的產品是蒙版對齊器，一個重要的工具，用於光刻工藝。NANO SYSTEM掩模對準器提供卓越的精度和準確性，使其成為各行業研究人員和制造商的熱門選擇。NANO SYSTEM掩模對齊器比它們的類似物有幾個優點。首先，它們提供了卓越的對準精度，確保了口罩在基板上的精確圖案和對準。這種精度水平使得能夠生產出高分辨率的微觀和納米結構。其次，NANO SYSTEM掩模對準器提供了卓越的多功能性，允許使用各種尺寸和材料的基板。這種靈活性使得它們適合廣泛的應用，從微電子到微機電系統（Micro-Electro-Mechanical Systems）和生物工程。NANO SYSTEM掩碼對齊器的一個顯著例子是DL-100模型。該DL-100結合了堅固的結構、易用性和尖端的對齊技術。它具有先進的對準模式，包括光學和背面對準，以滿足不同的工藝要求。憑借直觀的軟件和用戶友好的界面,DL-100實現了高效、準確的調整,簡化了制造過程。總體而言,NANO SYSTEM掩模對齊器與DL-100一樣,提供卓越的精確度、多功能性和用戶友好性功能,使其成為各行業納米加工工藝的理想工具。