二手 NIKON FX-801M2 #293621619 待售

NIKON FX-801M2掩模對準器是為半導體器件的光刻優化而設計的全自動優化設備。廣泛用於矽縮編、高速器件生產，以及包括邏輯IC、內存IC、發光器件（LED）、薄膜晶體管（TFT）在內的各種應用的3D集成。FX-801M2口罩對齊器在用戶友好的環境中提供了高精度和高效率的設備制造。NIKON FX-801M2掩模對準器由幾個腔室和結構組成，包括晶片級、掩模級和曝光室。晶圓和掩模級設有CANSTAGE系列EQ系列級配備單向皮帶系統。該裝置能夠提供高傳輸力和高精度的晶片和掩模定位。曝光室是使遮罩對準器FX-801M2特殊之處，它由許多組件組成，如冷凝器透鏡和帕斯卡光源。這些組件允許高效的平版印刷優化。NIKON FX-801M2掩模對準器的晶片級提供了450 x 350 mm的擴展行程,並具有標記檢測機和激光儀表工具。這種資產可以非常精確地定位晶片。掩碼級能夠自動在兩個掩碼之間切換,以實現各種對齊類型。它還具有用於掩碼檢測的專用功能,允許有效對齊包含獨特MTF算法的掩碼。FX-801M2面罩對齊器還配備了許多功能和設置,用戶可以根據自己的需要進行調整。這些包括曝光設置、光線強度、快門速度、預對準精度、圖像移位精度和強度偏移。此外，NIKON FX-801M2掩模對準器具有質量評估功能，可自動分析光刻圖像以檢查運動和質量。總體而言，FX-801M2遮罩對齊器是一個先進的模型，設計，使光刻優化速度快和準確。它具有出色的定位精度，並提供各種適應個人需求的調整設置。此外,它易於操作和用戶友好的環境使其成為任何設備生產的絕佳選擇。