二手 OAI 200 #9401975 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9401975
Mask aligner
Mask size: 2" x 2" up to 5" x 5"
Nitrogen consumption: 0.35 m³/h
Does not include vibration isolation table
Substrate size:
Round, 1" Up to 4"
Square, 5 mm x 5 mm up to 4" x 4"
Exposure system, 350 W:
Lamp house
Lamp power
Intensity spectrum of UV400: 350 nm to 450 nm
Print resolution at UV400:
Soft contact: 2 µm
Hard contact: 1 µm
Vacuum contact: <0.8 µm
Gap exposure: >3 µm
Double transmitted illumination: (2) IR Cameras
Microscope manipulator:
Travel range (X, Y, Θ): ±5 mm, ±5 mm, ±5°
Mechanical resolution (X, Y, Θ): 0.1 µm, 0.1 µm, 4x10^-5.
OAI 200是光刻工業中使用的全場掩模對齊器。它是為生產高密度集成電路而設計的高度精確的半自動曝光系統。200使用紫外線照射將電路模式在單個步驟中傳輸到基板上,並且是制造集成電路時使用的必要工具之一。對齊器帶有兩個獨立的階段，每個階段的工作面積為OAI 200 mm x 200 mm，這樣可以讓較小的磁場曝光，更快的芯片周轉時間。對準器的核心是高分辨率成像系統、CCD相機和NOVA-B微處理器的組合。此組合可確保曝光精度和穩定性,對準精度高達1.5 µm。OAI 200可以對濕和幹的光刻膠材料，以及感光材料，例如敏感的幹膜進行曝光。機器裝有電動晶片級，以確保精確的物體定位，並提供可變的對準參數，如場大小和圖像曝光。曝光時間也可以針對不同的材料進行調整。200還配備了一系列軟件功能，如自動曝光控制、激光切片和對齊優化算法。此外，手動和自動曝光模式允許批量曝光和單次曝光之間的交替，以及調整操作參數。總的來說，OAI 200是一種高度精確和高效的掩碼對齊器，適合與一系列其他處理工具集成。由於其高性能的成像和處理系統,它提供精確的曝光時間、高分辨率成像和快速吞吐量。此外，它具有極好的對準精度和較低的擁有成本，使其成為光刻行業的理想工具。
還沒有評論