二手 OAI 400 #9024062 待售

製造商
OAI
模型
400
ID: 9024062
晶圓大小: 6"
Mask aligner, 6" For up to 6 x 6" squares or wafers Collimated lens, 10" Stereozoom optics Lamp Power supply: 350 W.
OAI 400是一種光學自動對準設備,設計用於主流光刻工藝中的大晶圓尺度對準。400具有高度精確的四反射分光器和曲面鏡的集成設計,能夠在0.2微米水平快速、精確地對準。這使得大面積陣列達到OAI 400毫米晶圓比例時,能夠實現卓越的自動晶圓級對齊。光學自動對準系統主要由400頭、掩模級、晶圓級和控制器組成。OAI 400有一個具有大行程範圍的掩模和晶圓級,提供寬廣的視野來完成精確和高精度的測量。控制器用於協調設備的所有移動。可以為各種應用程序使用不同的配置設置對齊頭。機器有兩個獨立的CCD相機,同時捕捉晶圓和掩模圖像的不同角度。在對準精度方面,400在x-y平面提供令人印象深刻的0.2微米水平。此蒙版對齊器使用五軸運動控制器,在z方向上精確定位。OAI 400還具有高速對齊算法,可以在200毫秒/對齊時自動對齊掩碼圖像和晶圓圖像。其先進的視覺處理算法和功能使其成為大型掩模對齊的理想選擇。該工具可以快速準確地處理圖像,結果易於解讀。此外,400還有一個集成的校準資產和一個嚴密控制的環境,準確可靠的對準。此校準模型可設置為根據不同的應用要求調整不同的參數。OAI 400與許多DFM進程兼容,如高級對準軟件和激光對準。它還設計用於在真空環境中工作。總體而言,400是用於大面積陣列的可靠且經濟實惠的掩模對準設備。它易於使用,在0.2微米的水平上提供高度精確的對準,這使得它非常適合在高精度光刻工藝中使用。其集成的校準系統和先進的視覺處理算法允許快速、可靠的讀數,易於解讀。它還設計用於在真空環境中工作,這使得它適合與激光對準使用。
還沒有評論