二手 OAI 5008 #9155197 待售

OAI 5008是為下一代光刻應用而設計的高精度掩模對齊器。它是一種全場紫外線曝光設備，使用光源和步進技術，能夠支撐範圍廣泛的晶圓尺寸，從100毫米到8英寸（200毫米）的基板。5008是為了確保光掩模準確暴露在晶圓上。它使用步進定位精度,並提供± 0.5 μ m的可重復性。該系統提供了從0.2毫焦耳到20mJ的大量動態曝光能量,以及多種曝光選項。該單元的特點是激光幹涉儀機器提供絕對對準，和輪廓照明光學工具，使均勻的曝光質量。此外，它還具有最大精度為1.5 μ m的自動視覺對準以及自動對準優化算法。資產還具有各種控制系統，這些系統提供了廣泛的功能來提高其性能。它具有流程控制軟件,該軟件具有各種功能,如曝光參數控制、曝光管理、監控和性能報告,以確保一致性和高性能。此外，它還有一個帶有統計過程控制（SPC）和實時優化（RTO）模塊的高級過程控制（APC）模型，以精確監控和提高過程性能。OAI 5008是一款頂級的掩碼對齊器,可提供卓越的準確性、可靠性和一致性。其高精度特性使其成為光刻設備的理想選擇。該系統配置性強，能夠滿足不同類型光刻工藝的需求。它也是高效的,提供低缺陷級別的高吞吐量。