二手 OAI 804MBA-086265 #9384029 待售

OAI 804MBA-086265是一種適用於自動光刻操作的高精度光學掩模對準器。這種掩模對齊器能夠實現集成電路的大批量生產,因為它可以通過將吞吐量快速對齊到0.2微米來提高吞吐量。它配備了由兩個對準攝像機和四個獨立激光通道組成的State Core開環對準設備。這使得亞微米（<0.5微米）光學光刻面罩具有精確的對準能力。804MBA-086265還有一個自動浸入式透鏡聚焦和對準系統，能夠在9.6 µm的精度範圍內測量晶片表面，每次都能達到高精度聚焦。這樣可以確保任意數量的掩碼能夠精確對齊和精確聚焦,即使不使用手動幹預。該對準器還與數字模式生成兼容，其高速電子束寫入單元允許快速制造簡單的掩模。這種掩模對齊器非常適合制造特征尺寸較小的細膩結構,因為光學對齊專家能夠對低至0.1微米的小特征和小於0.5微米的特征進行成像,因為它的高對比度成像（HCI）優化了吞吐量和分辨率。此外,OAI 804MBA-086265為各種過程提供多種光學模式,以確保可重復、準確的性能。它便於用戶使用,因為它允許不同CAD系統在多個平臺上構建多個掩碼,並且可以輕松地與現代平版印刷工具集成。它還支持多種基材尺寸和公差,在大批量生產環境中提供可靠的操作。這使得它適用於半導體制造廠、大學研究實驗室以及其他需要準確性、可靠性和可重復性的設置。此高級掩碼對齊器的設計目的是通過最大限度地減少操作員的參與、提高吞吐量、提高對齊精度、縮短周期時間、提高機器性能和更有效地利用勞動力來實現最大的效率。這種經濟高效的解決方案旨在與一系列先進的光刻工藝具有高度的兼容性。這樣可以確保將高級光刻工具輕松集成到現有的制造工藝中。804MBA-086265被設計為尋求在大批量生產集成電路時實現最佳吞吐量和成本效率的能力的客戶的最佳選擇。