二手 ORIEL 82330 #188526 待售

ORIEL 82330是一種自動掩模對準器，用於領域半導體光刻。其最大曝光波長為325nm，橫向分辨率為50nm，聚焦深度為3um，運動速度為2um/sec。精確定位由分辨率為0.5um的XY表控制。扁平基板設計為允許最大厚度為1mm、最大重量為4kg的高達8.5 x 4.5英寸的扁平基板。該壓板耐用，采用了重新設計的吸力系統，以減少維護。這樣可以將樣品牢固地固定在適當的位置,以實現更高精度的對齊。82330還提供了自動對焦系統、專有晶圓對準軟件和曝光日誌。這樣就可以對基板上的圖樣進行高度精確的對齊,並記錄存儲卡所使用的聚焦條件和曝光參數。自動對焦系統還能夠優化整個視野的焦點，從而獲得更高精度的結果。ORIEL 82330配有電子束兼容塗層模塊，用於光刻膠的現場塗層。此模塊的顯著特點包括真空塗層底座、高達100攝氏度的可編輯溫度和無霧塗層。這套實驗室熱處理設備是為脫氣、紡紗、烘烤等應用量身定制的。它包括一臺0至2000 rpm可調速的十站微調器、一臺溫度可達400攝氏度的熱板、一臺兩級真空爐和一個原位冷站。82330有大量自動化工具，使半導體光刻更加簡單。真空室有一個可調的高度，以適應不同的樣品，而對準工具保證精確的對準和精確的背面圖案。塗層模塊還確保光刻膠的均勻覆蓋，加工工具允許樣品快速均勻烘烤。這種對齊器設計方便地與其他實驗室設備集成，以滿足任何半導體光刻應用的確切需求。