二手 PERKIN ELMER 600 series HT #195230 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 195230
優質的: 1988
Mask aligner
Main body
Uniformity tester
AFA linear array camera
Scan package
A4 and A5 boards
Relay package
A401, A700 and A703 Boards
1988 vintage.
PERKIN ELMER 600系列HT是一種先進的掩模對準設備,配備高精度步進電機運動控制器,使其能夠將精細的掩模精確對準用於半導體制造的基板。該系統具有加熱基板支架、用於精確角度定向的theta級和能夠進行步進重復和連續運動操作的x-y平移級。該單元針對光刻工藝控制進行了優化,具有先進的曝光控制功能、十倍放大步進器對準的對準反饋以及更好的聚焦精度的軸上成像功能。為了有效地對齊精細的掩碼，600系列超線程利用了一種完全可編程的啟發式掩碼對齊算法，該算法自動優化了基於可變晶圓和掩碼配置的曝光。該算法確保掩模的活動層始終正確地聚焦在晶片上，防止晶片堆棧高度差異造成的錯位。此外，機器允許曝光之間的「停留」期，這有助於減少掩模-掩模的錯誤註冊和提高過程的可重復性。PERKIN ELMER 600系列HT還具有先進的光學顯微鏡成像工具,具有軸上成像功能,在聚焦精度方面比離軸系統有顯著提高。這使資產能夠準確地識別和集中於掩模或基板表面附近各層上的關鍵對齊標記,從而使該模型成為需要嚴格聚焦控制的制造工廠的理想選擇。600系列HT還配備了用戶可選擇的晶圓大小,從而使操作員能夠在設置過程中輕松選擇所需的晶圓大小。這種縮短的設置時間,加上自動曝光優化,可在曝光之間提供快速對齊和焦點重復性。該設備還提供了先進的風力冷卻子系統,可提高吞吐量,同時避免通常因水冷而造成的損壞。可以將系統設置為在每一層曝光之前提供冷卻,從而使晶片更冷,曝光時間更短。綜上所述,PERKIN ELMER 600系列HT是為光刻工藝控制而優化的先進掩模對準裝置.這臺機器具有用戶可編程的啟發式對齊算法,可精確對齊精密的掩模,先進的軸上成像工具,可提高聚焦精度,采用空氣冷卻來減少損壞並提高吞吐量,以及用戶可選擇的晶圓尺寸,便於設置和快速對齊。
還沒有評論