二手QUINTEL(光罩對準曝光系統)待售

QUINTEL生產的掩模對準器以其在光刻工藝中的高品質性能和精確度而聞名。這些基於UV的掩模對齊器與市場上其他可用的對齊器類似，但由於其先進的特性和卓越的工程設計而脫穎而出。QUINTEL的掩模對齊器提供了幾個優點。它們允許口罩和基板的精確對齊，從而產生高度詳細的模式並提高生產率。對齊器配備了直觀的軟件和用戶友好的界面，使其易於操作，適合初學者和經驗豐富的用戶。而且，這些對齊器被設計用來處理廣泛的基板，允許在各種應用中的多功能性。QUINTEL提供不同的型號，每種型號都符合特定的要求。Q4000模型提供精確的對準和曝光能力，而Q4000紅外模型擴大基板的範圍，包括紅外敏感材料。該Q4000-4IR是一個更高級的版本，它包含四個紅外通道，以實現更大的靈活性和先進的光刻工藝。這些示例展示了QUINTEL在其對齊解決方案方面對不斷改進和創新的承諾。總之，QUINTEL的掩模對齊器因其準確性、多功能性和高級特性而備受推崇。它們為用戶提供成功的光刻工藝所需的工具和能力，從而在各種應用中取得突出成果。