二手QUINTEL / NEUTRONIX(光罩對準曝光系統)待售

Quintel/Neutronix制造的掩模對準器是光刻過程中用來將圖樣轉移到半導體基板上的精密光學工具。這些掩模對準器的設計目的是在對準掩模和基板時提供高精度和重復性，確保微電子器件的精確可靠的生產。Quintel/Neutronix掩模對準器的突出優點之一是它們能夠以極高的精度對齊和暴露多層基板。這使得能夠制造復雜的集成電路和其他具有高模式保真度的微結構。對齊器還提供了極好的聚焦深度，這對於實現清晰和明確的模式至關重要。Quintel/Neutronix提供了一系列的掩碼對齊器型號，例如7000、Q 4000-6和NXQ 4006。7000型號具有高分辨率光學系統和先進的對準算法，使其適合要求超高精度的應用。Q 4000-6機型以通用性著稱，提供了廣泛的對齊和曝光選項。NXQ 4006專為高通量生產環境而設計,提供快速曝光和對齊功能。總體而言,來自Quintel/Neutronix的掩模對齊器因其準確性、可靠性和靈活性而備受推崇。這些對齊器在半導體工業中起著至關重要的作用，使得能夠生產具有錯綜復雜模式和結構的高質量器件。