二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 340HT #65071 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 340HT Mask Aligner是一種通用的先進的半導體制造掩蔽和光刻設備。它結合了必要的曝光精度和堅固可靠的硬件設計，確保了光刻加工的高產率。該系統利用高質量的柵極矩陣及其獨特的薄膜曝光工藝，提供從8nm到0.5um曝光的臨界光刻精度。該單元包括一個功能齊全的控制器,能夠通過單個用戶界面控制多個工具。這樣可以實現更高效的生產和更準確的結果。該機獨特的曝光能力包括深紫外線（DUV）光刻、先進的電子束曝光，以及利用其先進的曝光控制器進行先進的曝光控制。這確保了在需要精確分辨率的陣列和特征方面的更高精度。由於其統一的照明技術,該工具還具有更高的曝光精度。這有助於各種光刻工藝,如臨界覆蓋、臨界間隔、臨界配準和臨界線邊緣粗糙度,以及接觸孔和模具連接光刻等特殊應用。該資產還設計得極其可靠，並融合了無垂直運動警報、低速運動警報和動態聚焦設置等一系列功能。此外,該模型還包括一個集成的精密步進器,允許以最少的運行量對大區域進行精確步進和陣列化。此外，SVG 340HT Mask Aligner是為了靈活性而設計的，並且兼容於各種不同的基材和抵抗材料。該設備還為重復性對準過程提供自動化的工藝排序，並可配置到各種晶圓處理系統，用於處理中小型基板批次。此外,ASML 340HT Mask Aligner還包括一系列高度復雜的CR和DR選項,這些選項提供了自動化、改進的數據處理和過程控制方面的最新功能。該系統還具有一整套診斷程序,包括不下載的測試,以及完整的掃描和曝光記錄。總體而言,PERKIN ELMER 340HT Mask Aligner是用於半導體生產的最先進、精密且用途廣泛的設備。結合精確的分辨率和精確的曝光精度,以及卓越的可靠性組件,340HT是吞吐量和產量優化的理想選擇。