二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 551 HT #9165929 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 551 HT Mask Aligner是一種最先進的自動化晶片級光刻設備,設計用於晶片上電路的陣列和對準。它提供精確、精確的曝光功能,允許使用精確度低至100 nm的功能。它比可比的光刻系統體積更小，成本更低，是大批量芯片生產的絕佳選擇。系統使用幹涉映射來精確地在基板上對齊掩模圖樣,並且可以容納直徑不超過6英寸的基板。它由一個光源、一個透鏡、一個拿著口罩的狹縫轉子和一個對準檢測器組成。Mask Aligner能夠成像晶片,其最小線條/空間模式為0.5um,最小面積為0.2um x 0.2um,曝光重復精度為0.1um。該機借助高精度電機運行，提供精確、精確的運動控制。它由高分辨率線性編碼器組成，提供了一種精確測量光刻中使用的光學計算的手段。該單元還可以容納100毫米和150毫米晶圓。它配備了一個精細的調整機制，這使得容易對準面罩圖樣與基板。機器配備了自動化的模型和關鍵幀編程功能，最多可以存儲20個密鑰，使用戶能夠快速準確地回憶模式。SVG 551 HT Mask Aligner包含許多高級控制功能,包括3.5英寸液晶顯示屏,用戶可以輕松調整對齊參數。此外,該工具還具有內置的自動校準功能,無需在每次曝光前進行手動校正。此外，該資產還包括一個全面的軟件包，其中包括一個用戶友好的圖形用戶界面。這使用戶能夠快速直觀地對模型進行必要的調整。該軟件還可用於存儲可編程參數，消除為後續運行手動重新編程掩碼，並允許快速檢索存儲的模式。總體而言,ASML 551 HT Mask Aligner是滿足各種光刻需求的理想選擇。它為大容量芯片生產提供了精確、可重復的曝光功能,以及各種高級功能,如自動對準和校準。