二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 551 HT #9377427 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 551 HT掩模對準器是一種用於半導體和納米技術制造工藝的工具。它利用光刻和精密對準的組合，允許在基板上蝕刻電路和特征。該機器能夠提供小於1 µm的對準精度,並且可以處理直徑從5"到8"的基板尺寸以及最大12"的芯片尺寸。掩模對齊器的核心是由兩個基本子系統組成：各階段，它們負責準確定位基板和相互相對的掩模；以及光源，它負責將光致抗蝕劑暴露在基板上。這些階段由兩個連接到兩個旋轉階段的X-Y線性平移階段（或「表」）組成。兩個旋轉級在XY平面中旋轉,精度為0.007度。X-Y線性級在三個維度上移動基板和掩模，可重復精度優於1 µm。此外，各級還有一個晶圓提升系統，其設計目的是在曝光過程中保持基板的位置。光源是一種光掩模投影系統，能夠以高達245nm的紫外線（UV-C）照射光抗蝕劑。光源具有可編程的UV-C強度和曝光時間，允許對曝光過程進行精細控制。SVG 551 HT是一種通用的設備制造工具。憑借其高度精確的舞臺和強大的光源，面罩對齊器能夠創造功能尺寸降低到幾微米。它也可用於創建標準的光刻掩碼，以及半導體器件，如數字邏輯電路、內存芯片和納米級晶體管。