二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 554 HT #293645518 待售

ID: 293645518
Mask aligner.
SVG/PERKIN ELMER/ASML 554 HT掩模對準器是一種用於光刻應用的設備,例如在半導體器件的生產中。它用於將模式從掩模轉移到基板上。該系統具有較高的吞吐量和精度,適合生產具有高模式重復性和精度的先進半導體器件。該單元的特點是投影機包括一個5倍還原投影透鏡,石英燈和平場冷凝透鏡。石英燈保證了最佳照明和高通量,而投影透鏡提供了高分辨率的圖像,精確地顯示了精細的細節。投影鏡頭的N.A.為0.55,數值光圈高達0.45。照明元件還包括單色激光源和一組衍射光學元件,以提高分辨率和對比度。該工具還有一個步進級,射程為0.7至6.0 µm。0.3 µm+/-0.1 µm的絕對級精度允許有圖案的口罩和基板的精確對準。為了確保重復結果,步進器進行溫度控制和溫度調節.舞臺可以在手動或自動化環境中操作。除步進器外,對齊器資產還包括一個X-Y級,其掃描範圍可達4毫米。這用於在同一對齊模型中覆蓋多個基板。步進器和X-Y級都配備了編碼器來測量它們的位置,允許高度精確和可重復的基板對齊。該設備還有一個自動蒙版裝載機,用於送入有圖案或鍍鉻的蒙版,或接觸對準蒙版。掩模平鋪器通過將多個掩模並排放置在同一基板上來實現更高的吞吐量。這可以很快完成,因為傾斜器有一個2.4-4度的舞臺,可以精確定位多個口罩。SVG 554 HT掩模對準器是一種通用、先進的光刻應用系統。該單元具有高分辨率投影光學器件,精確步進和X-Y級,以及自動蒙版裝載機。結合高吞吐量,這臺機器非常適合生產高質量的半導體器件。
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