二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 641 HT #9198310 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 641 HT是為了製造高精度光掩模而設計的掩模對齊器。作為現有SVG 641系列曝光系統的擴展開發，SVG 641 HT專為苛刻的電子制造服務（EMS）、光子和半導體精密掩模制作應用而設計。ASML 641 HT掩模對齊器具有集成的測試儀、對齊前和對齊後的增量矢量測量功能、轉盤校準、自動對齊對齊表和500瓦激光照明器,在放置和對齊尺寸不超過6英寸的光掩模方面具有極高的精度。作為綜合精密口罩制作包的一部分，641的HT版配備了可靠準確的曝光設備。掩模對準器允許對曝光參數（如劑量、速度和焦點）進行精細調整,並允許對映射或晶片進行半自動和/或手動編程,使其與光掩模對準,以制造復雜的多維精密光掩模。HT版本的ASML 641系列采用高度可靠、高效和可重復的對齊系統,將精確掩碼制作提升到新的水平。該設備包括先進的技術和功能,可實現更高的對準精度,包括一個線性電動機驅動器,該驅動器能夠快速移動掩碼級± 30毫秒。這些電機還允許機器在任何非線性運動後自動重新校準自身。該工具具有九軸、平面內預對準和後對準反饋回路以及XY現場監控資產,可最大程度地減少振動並減少熱漂移,確保始終保持對準的準確性。HT模型還包括完全集成的標線和磁帶處理功能,用於標線和晶圓對齊。該模型能夠容納使用邊緣配準最多四個不同網格的多網格標線,並且能夠容納用於制造最先進的光掩碼的最復雜的標線。此外，該設備還能夠處理高容量的磁帶進紙器，以適應面膜與晶圓的匹配。PERKIN ELMER 641 HT是一款用途廣泛、先進、用戶友好且極其精確的掩模對準器,旨在滿足最苛刻的光掩模制造需求。憑借其先進的技術和特點，HT模型能夠以非常短的周轉時間生產出最高精度的光掩模，以滿足EMS、光子學和半導體行業的需求。