二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 651HT #293605029 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 651HT Mask Aligner是用於制造半導體集成電路和集成光學系統的高精度設備。該系統用於在光掩碼上精確定位標線,並精確對齊兩層或多層陣列掩模材料,從而創建所需幾何形狀和復雜性的大規模結構。該單元結合激光幹涉對準和高精度步進電機和成像光學器件，在450毫米晶圓和標線區域上實現小於0.15 μ m（10 σ）的對準精度。該機采用光學器件、標線加載和交換工具以及膠片掃描儀，為大型基板和標線的納米加工和對準提供了可自定義的大視野。資產的水平和垂直視場分別為標線± 30毫米和晶圓± 200毫米。同時,對準距離範圍為0.02 μ m-5.6 mm,經線性5 μ m分辨率調整.該模型還配備了良好的圖像采集技術，提供了創建可重復、準確的高度和對齊圖的能力。它還存儲像素高度和對齊數據,並支持將數據導出到外部PC或數據庫。此外，該設備還通過使用可見和紫外線（UV）成像相結合，支持整合多激光源、改善光掩模對準、沈積速率和覆蓋精度。SVG 651HT還旨在促進高級校正算法的集成,包括自動對焦校正和模式識別中心（COPR）。它提供了自動聚焦、對齊和生命監控功能,使其成為高級生產過程的理想選擇。它的自動標線交換功能使標線交換能夠快速高效地交換,並促進涉及多個標線的過程。總體而言，ASML 651 HT Mask Aligner是制造半導體集成電路和集成光學系統的通用、精確的工具。它具有大範圍的對齊距離選項、大視野以及廣泛的成像技術和校正算法，以確保準確性和效率。