二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 651HT #9259118 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 651HT Mask Aligner是一種先進的快速原型制作工具,用於制作和裝配光學對齊光刻。掩模對準器是一種掃描型直寫工具，用於生產級半導體和相關行業，用於修改薄膜器件如光電阻器、薄膜晶體管（TFT）陣列和電容器。SVG 651HT專為Submicron處理而設計,可精確執行平面化/幾何對齊以及對齊漂移和扭曲補償。ASML 651 HT Mask Aligner由四大子系統組成；光學設備、掃描系統、對準單元和投影/光刻機。光學工具包括一個精美的變焦物鏡（聚焦從0.150毫米到0.34mm）和一組四個用於高精度掃描和投影的電動鏡。掃描資產基於壓電步進鏡以及用於三維對齊的旋轉鏡,並以高達90°的偏轉角度提供所需大小的圖像字段。對準模型采用了高精度的自動定心級和手動調節的步進電機，實現了快速、精確的對準。SVG/PERKIN ELMER/ASML 651 HT的投影/光刻設備由700nm至830nm照明設計的有源照明器和保持光強度均勻性的衰減器/平滑器組成。微光刻系統還能進行角度對齊，場角高達350微米。它體積小巧,僅需80 x 80厘米的空間。ASML 651HT易於安裝,可與各種流程環境連接以實現自動化。該工具帶有自己的內置PC,並運行基於Windows的軟件來控制投影儀/掩模對齊器。其全面的圖形用戶界面（GUI）使工具的設置和操作變得微風。651HT配備了多場八邊形掃描、回繪長度、快速對準例程、工藝優化、光束位置自動校正等多種先進功能。總之，SVG 651 HT蒙版對齊器具有精確、精確的性能，是制版和裝配光學對齊光刻的典範工具。它具有先進的特點，能夠方便和方便用戶的操作，適用於研究和生產水平的半導體。