二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 651HT #9399540 待售
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ID: 9399540
Mask aligner
HG Lamp uniformity high: >13%
Scan speed low: 0.34"/s
Frequently unit: Arm stuck
Reworked unit: Assembly gear unit
Motor and gear assembly
Vacuum cups
Air gauge: Auto focus calibration
Offset evaluation: Nozzle
OPC 121: 480 µm
Wafer screws adjustment: 89 cm, -34cm, 163cm
OPC 122: -2.1 µm
Focus coarse adjustment:
OPC 11: -9.5 µm
0.7µm/cm -0.1µm/cm
Open slit unit: 4.9% (13%)
Scan speed: 0.55”/s - 1.045"/s
Input elevator (Height and flag adjustment)
PCB Labelled: Right and left hand card cage
Parameter: OPC 240: -4PPM, 2304: 0 -0.25, -0.1 µm.
SVG/PERKIN ELMER/ASML 651HT是專為非常高通量晶圓步進器應用而設計的高性能掩碼對齊器。它具有基於奔騰處理器的嵌入式微控制器,以及高速集成內存控制器和高速串行通信端口。SVG 651HT具有多種功能,包括高速光學對準機制,可確保口罩和基板的精確對準。該機構由安裝在兩個獨立階段的兩個定位器組成,第一個用於快速成像,第二個用於微調。ASML 651 HT的微調光學器件有助於顯著減少曝光時間。651HT集成的兩級對準還包括一個獨特的顯微鏡成像平臺,允許面膜和基板的多種配置。顯微鏡裝有防靜電保護器,防止粒子附著在敏感的靜電卡盤上,成像設備靈敏程度足以檢測到晶圓上的單個微米特征。651 HT具有高性能的自動對焦功能,使其能夠連續檢測、測量晶片並將其重新對焦至1微米以內。該系統還設有集成的高精度對準平臺,使用戶無需耗時的重新校準即可快速調整大量復雜的曝光。PERKIN ELMER 651 HT的靈活軟件平臺也允許用戶探索各種預定義或自定義的用戶定義參數。強大的功能包括移動曝光區域以增強光刻控制和優化設備生產周期。整個單元可以通過基於文本的命令界面輕松操作。SVG 651 HT設計用於低附著暴露過程,其密封外殼有助於防止光學器件的汙染。此外,它堅固的車身由高級耐溫材料構成,也具有抗沖擊能力,能夠承受高振動和ESD沖擊。SVG/PERKIN ELMER/ASML 651 HT是一種可靠高效的晶圓步進機,即使在高速和通路下也能執行困難而精確的光刻工藝。高度先進的設計使ASML 651HT能夠在各種復雜的曝光過程中始終提供高性能和準確性,使其成為高速光刻生產的絕佳工具。
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