二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 751 HT #293615179 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 751 HT是一種用於覆蓋層和接觸層光刻的掩模對齊器。該機利用超高真空環境和曝光光學器件實現亞微米精度，是設備可以再現的最小特征尺寸。接觸曝光時間可從2毫秒調整到200毫秒,而覆蓋層曝光時間可從5毫秒調整到500毫秒。此外,系統還具有自動聚焦、柱頭和自動曝光,以確保光刻過程中的最佳對準、曝光和聚焦。SVG 751 HT對準器具有覆蓋層和接觸層的雙源單元。它有一個300毫米卡盤，有蓋子和接觸面罩空白支架的插槽，並配有一個300毫米艙口支架，能夠處理大量的基板。晶圓與精確真空接觸。這樣可以防止晶片移動,並在曝光時確保精確對準。該機配備石英基投影光學器件，保持了高通量、低噪聲、低熱陳舊。除石英光學器件外，該機還擁有一臺速度可調的框架快門機，為用戶提供光刻過程中曝光時間和功率的控制。磁場展平透鏡進一步有助於在曝光過程中保持平坦的磁場。ASML 751 HT具有自動化的過程控制工具，利用電子圖像處理和機器人控制方面的進步。這允許精確的對準和可重復的曝光結果。它還為用戶提供了操作上的靈活性,使其能夠運行不同的暴露過程,而無需手動觀察或校正。該機還擁有先進的基板處理資產，使用負載鎖、晶圓籠和基底減振，以確保潔凈室環境，有助於防止顆粒汙染。可選的串聯粒子監控器功能允許用戶監控和控制基板汙染。通過一系列警報和其他讀數監測PERKIN ELMER 751 HT的運行狀況。這些警報允許立即向用戶通知可能影響光刻工藝準確性或完整性的任何更改或問題。這使用戶能夠快速解決任何問題,並最大限度地減少任何潛在的損害。751 HT是一種高度精確、經濟高效且可靠的掩模對齊器,專門設計用於半導體行業。它使用戶能夠以最高的精度和精確度制作平版印刷,同時提供一個安全和受控的工作環境,並提供最低限度的維護。