二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML PE661 / PE700 #9186519 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML PE661/ PE700 Mask Aligner是專為生產光掩模和半導體晶片而設計的、最先進的步進/對準設備。該儀器有兩個光學系統，一個用於對準晶圓上的光掩模，另一個用於生成光掩模可以看到的衍射圖樣。光學系統由一個遠心雙重物鏡、一個二向色光束分離器和兩個角鏡組件組成。SVG PE661/ PE700具有廣泛的視野（FOV）和高度的對齊操作準確性。800 × 800 μ m FOV提供5.4 μ m的精確實時分辨率,而1350 × 1400 μ m FOV提供6.6 μ m的分辨率。儀器以無與倫比的精度執行模式叠加測量、工藝開發和晶圓檢測操作。ASML PE661/ PE700 Mask Aligner專為高產半導體晶片而設計。它具有先進的光學器件、模模配準單元、對準級和正在申請專利的多軸運動控制硬件。該機可針對大面積圖案優化縫線，在關鍵對齊應用上提供卓越性能。它還為瓷磚提供縫合選項,從而提供更高的精度。PERKIN ELMER PE661/ PE700提供了一系列自動晶片處理功能,包括基板夾具機、晶片處理單元、晶片預對準夾具和光刻膠檢測工具。它還配備了專門的晶圓對準和放置優化系統，能夠更有效地自動收集和分析數據。此外,PE661/ PE700還包括高級校準和調整功能,以確保在各種工藝條件下的最高精度。SVG/PERKIN ELMER/ASML PE661/ PE700還具有幾個獨特的高級安全功能。該儀器設計有減振機構和冷卻系統，以防止腔室和光學器件過熱和受到汙染。該機還利用計算機控制的傳輸動力學來防止不希望的瞬態運動。總體而言,SVG PE661/ PE700 Mask Aligner是一種精密儀器,旨在在高產量的生產環境中提供高精度對準晶片上的光掩模。其自動化晶圓處理元件陣列，先進的光學和分層的安全特性，提高其準確性和可靠性，以確保一致的，高質量的結果。