二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML PE761 #9113601 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML PE761是一種高精度掩蔽器工具，用於在納米尺度上對半導體晶片和器件層進行圖樣繪制。掩模對齊器的目標光刻過程在創建半導體器件。對於每一個光刻過程，都需要一個「掩模」，也稱為光掩模。它包含打印到晶片上的圖樣。設備層必須放置在精確的位置,然後才能將其暴露和陣列化。SVG PE761的一個關鍵特點是其高的位置精度和光學精度，這是精確電路所必需的。其6軸高度集成的自動對準系統提供了高度的靈活性和準確性。它提供了一個可處理4「或6」晶片大小、雙晶片對準和各種標線尺寸的電動級。ASML PE761具有光場和暗場能力的光學圖像系統，使其能夠促進不同類型的檢查，包括對非常小的結構的檢查。PERKIN ELMER PE761還具有廣泛的自動化和過程控制功能。它能夠實現對齊、光刻和曝光過程的自動化,並結合了自動SPC（統計過程控制）功能,提供實時過程監控功能。除此以外,PE761還提供了一系列生產力特性,包括高定位分辨率、快速晶圓傳輸以及高可重復性和可靠性。除此之外，這臺機器還能夠處理各種不同的過程以及多種意圖。其中包括已知良好的模版印刷和CMP（化學機械拋光）工藝控制。SVFSVG/PERKIN ELMER/ASML PE761是一種自動化、精確且高度集成的掩碼對齊工具。其尖端的設計和性能使其成為在納米尺度上對半導體晶片或器件層進行陣列設計的理想選擇。其6軸對準系統、適當的晶片對準以及自動化的過程控制和監控功能的結合，使SVG PE761成為光刻和過程控制應用中極為有用的工具。