二手 TAKATORI NMC 1 #9132183 待售

TAKATORI NMC 1是一種面罩對齊器，設計用於將微制造的面罩精確對齊到基板上。它用於在Si晶片等基板上繪制高分辨率特征的圖樣,能夠同時定位和對準多達六個獨立的掩模,精度和精度可降至亞微米級。NMC 1利用先進的光學成像和圖像處理技術將掩模對準和定位到基板上。成像設備由一個分束器、鏡頭、CCD相機、可移動反射鏡等幾個光學元件組成。分束器將來自對齊設備的光分成兩條路徑。第一個路徑用於照亮蒙版上的參考圖樣,而第二個路徑用於捕獲基板上相同圖樣的圖像。TAKATORI NMC 1能夠通過分析捕獲圖像的相對位置來檢測小的對齊差異。然後,它會自動調整鏡子和掩模支架的運動,以便將掩模精確對齊到基板上。NMC 1的對準精度約為50納米。為了保持這一精度水平，系統配備了環境控制單元，以確保運行過程中溫度、濕度和壓力水平保持穩定。TAKATORI NMC 1還被設計為與光源、運動控制器、真空卡盤等其他設備配合使用。光源用來照亮遮罩上的參考圖案，而運動控制器和真空卡盤則可以用來固定和移動遮罩和基板，以確保精確對準。除了將口罩精確定位到基板上之外，NMC 1還提供了一些額外的功能，如口罩配準和測量口罩圖樣失真的能力。它還具有手動調整對齊參數的手動模式。總體而言,TAKATORI NMC 1是一款先進的掩碼對準器,可提供精確度和準確度,最高可達亞微米級。它被設計為與光源、運動控制器、真空卡盤等其他設備結合使用，以實現微加工面罩在基板上的精確對準。環境控制機可確保操作過程中溫度、濕度和壓力水平保持穩定,而掩模配準和模式失真測量等附加功能使用戶能夠進一步優化結果。