二手 TAMARACK 191 #9237954 待售
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TAMARACK 191是用於處理和生產集成電路的高級掩模對準器，其中具有布線、晶體管等圖樣的光掩模層被轉移到晶圓上。191對準器為其面膜均勻性使用曝光設備。該系統由一個157 nm氟化物準分子激光光源、一個成像單元、一個旋轉級和一臺對準機組成。曝光工具包括一個157 nm波長氟化銨準分子激光器，用於產生紫外線，用於將光掩模暴露於晶圓。該激光器是一種風冷冷腔激光器，具有6kW的脈沖功率輸出，旨在在整個晶圓上產生均勻的光強度。該成像資產包括一個數值孔徑為0.50的雙多模具透鏡和一個自相關算法，用於比較光掩模上的圖樣和晶圓上的底層圖樣。中等大小的旋轉級允許晶圓旋轉360度，用於將光掩模對準成型晶圓上的目標圖樣。該級具有高度精確的運動能力，可以在x軸和y軸中移動，具有精確和可重復性。對齊模型負責對齊或放置光掩模圖樣與底層晶圓圖樣。它具有先進的仿射變換算法，有助於將每個光掩層精確地放置在晶圓上。TAMARACK 191是一款高效、精確的掩模對準器，非常適合大批量生產集成電路。它具有較高的激光強度、成像精度和對準精度，適用於涉及大量集成電路的復雜制造工藝。
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