二手 USHIO UX-4440 #293591994 待售

USHIO UX-4440
ID: 293591994
晶圓大小: 6"
Aligners, 6".
USHIO UX-4440 Mask Aligner是一種專用的高精度光刻制圖機,允許在亞微米精度下對準mask和晶圓。它是為基板的制圖和加工而設計的,最高可達4 「x4」,可重復性± 1 µm。該對準器支持光阻光學透鏡系統、自動膠片沈積和導入的設計數據,使其能夠有效地創建精確對準,這對於開發復雜設計的高度精細的晶片至關重要。內置的先進計算機控制設備能夠處理復雜的跟蹤模式程序和自動邊緣取景器技術。USHIO UX 4440擁有25毫米至200毫米的FOV,最大光學放大倍率為20倍,允許對投影的遮罩圖案進行全面檢視,驗證對準的準確性。直觀的觸摸屏和各種各樣的功能允許易於使用(例如,步進重復、自動蒙版配置)。用戶界面可用於最多10個用戶定義的配方設置和顯微鏡圖像,允許在需要時存儲和回放用於作業的過程流。UX-4440具有雙腔室、無毒幹蝕刻防腐劑,可支撐多種抗蝕劑材料,從而實現卓越的晶片質量。該系統具有長430mm的輻照場,允許在200W/cm2的最大速度下均勻均勻曝光。UX 4440的光源是可定制的,可以與偏振光和UV光同時使用,以精確對齊掩模圖案。內置的光源和龍門可提供廣泛的曝光角度,使得同一基板上的窄角曝光成為可能。USHIO UX-4440中基於微處理器的控制器允許一系列操作,如自動過程控制、可移動批處理和低溫處理,使其成為高級晶圓處理的理想選擇。此外,該單元還可與可選的雙面成像機進行多層晶圓處理,從而實現更加復雜的過程。USHIO UX 4440 Mask Aligner是半導體和顯示器制造商所必需的工具,需要快速、精確和可靠的光刻模式。其先進的特點,以及高精度的光學透鏡系統,使其成為最優質的掩模對準和晶圓處理的理想選擇。
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