二手 ELECTROMASK / TRE 251CC #9288863 待售

ID: 9288863
Pattern generator Stand alone With (3) microns Plate sizes: 3x3" to 8x10" Glass Step sizes: 0.395 x 0.395" Wave lengths: 365 nm and 405 nm used for Mercury arc lamps.
ELECTROMASK/TRE 251CC是一種尖端的口罩生成和生產設備,旨在幫助制造商和制造商高效地創建用於各種應用的光口罩。該系統具有生產就緒工作流程和高級數據準備功能,可創建各種尺寸、材料和形狀的詳細、準確的光掩碼。它配備了TRE 251CC濺射裝置,其沈積速率可達100納米/秒,最窄線寬為20納米。這允許精確蝕刻光掩模圖案,為高級應用程序創建復雜的細節。ELECTROMASK 251CC使用高級模式準備和操作軟件來創建各種掩碼,從自定義形狀到詳細的掩碼,從而能夠在單個運行中快速創建掩碼。它還利用掩碼管理軟件幫助管理生產和工作流,同時減少錯誤。此外,該機器還集成了一個基於Web的用戶界面,用於遠程訪問和使用,允許對生產進行遠程控制。251CC還具有強大的微波電源,能夠產生高達1000瓦的功率,並具有數字顯示屏以加快蝕刻和沈積速率。它有一個可選的內聯計量工具,可以用來確保精確的模式,以及一個多真空源蝕刻控制和均勻性。此外,資產的模塊化設計可以方便地安裝和維護。總體而言,ELECTROMASK/TRE 251CC是一種創新且強大的掩模生成和生產解決方案。其先進的特點,包括高精度的沈積率、精密的蝕刻和圖案準備能力,以及尖端的軟件和用戶界面設計,使其成為高品質口罩生產的理想選擇。制造商和制造商可以從其易用性和獲得先進的、業界領先的技術中獲益,幫助他們優化生產過程,並實現更高效、更具成本效益的光掩模生產。
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