二手 ETEC 4500F #152934 待售

ETEC 4500F Mask Generation&Production Equipment是一個戰略發射系統,使半導體制造商能夠生產質量優越、成本低廉的光掩模。它以先進的光刻平臺為基礎,提供卓越的打印分辨率、高精度和卓越的缺陷檢測。該裝置采用最先進的四顎步進運動機器，用於精確、開放的視場運動，從而能夠精確定位標線和遮擋階段。加載和卸載分期功能是完全自動化的，可以方便和無錯誤地加載和卸載標線。該工具結合了先進的測量資產，有助於提高光掩模的精度。其多感應源傳感器有助於檢測中低頻缺陷，有助於優化缺陷檢測精度。此外,該型號還提供了一個可選的高精度對齊工作站,用於模內對齊和監控光掩模打印。4500F Mask Generation&Production Equipment還提供了廣泛的數據輸入/輸出選項。其高速以太網接口允許用戶快速傳輸高分辨率數據。此外,系統還包括一個高級、安全的數字圖像傳輸（DIT）單元,允許用戶將數字數據從本地生產環境移動到工作中心,從而消除了手動交付數據的情況。此外,該機器還支持多種用於創建掩碼和輸入數據的過程。其內置的QA功能可確保檢查所有傳入和傳出的口罩的準確性和質量,從而確保只交付質量最高的最終產品。它還具有一個自檢功能，可實現簡單無誤的安裝。ETEC 4500F口罩生成和生產工具旨在提高生產率和節省成本。從集成自動措施和實時數據監控到一站式生產/驗證工作流程,它提供了一整套經濟高效的解決方案,可提高生產率。最後,該資產可用於輕松快速地生產印刷品或制造大批量生產運行。