二手 ETEC Mebes 4 #9252186 待售

ETEC Mebes 4是一種先進的口罩生成和生產設備，設計用於生產商用和軍用的集成電路口罩。該系統基於一個開放的體系結構平臺，允許各種軟硬件組件的集成。它能夠支持步進、掃描電子束以及光柵和矢量繪圖儀等各種光刻過程。該單元的第一個模型是以提供一種通過使用各種精密算法生成集成電路掩碼的有效方法為目的而構建的。它采用了一些特點，以提供最佳結果。這些功能包括補償過度曝光、側壁平滑、未對準和孔徑大小。機器還能夠定義高分辨率的掩模模式並執行曝光控制。除此之外，Mebes 4還有能力支持各種晶圓尺寸的集成電路掩碼的生成。這種能力允許生產適合不同應用的口罩。該工具還利用高精度的研磨和蝕刻技術來生產高質量的口罩。軟件方面，ETEC Mebes 4資產運行著著名的光子曝光工具（PET）軟件。該軟件旨在為用戶提供必要的工具，以創建高質量的集成電路掩碼。它還包含一個預定義布局模板的大型庫,可用於創建各種布局定義。該模型高度自動化,允許自動對齊、放置、曝光和制造等自動化過程。它具有許多功能,使其成為制造集成電路掩碼的強大工具,包括能夠在單個操作中定義高分辨率結構以及大型結構。Mebes 4還為用戶提供必要的設計規則,以創建符合當前行業標準的掩碼。這是通過實施設計規則檢查器（DRC）以及可配置設計規則庫來實現的。該設備連同其復雜的算法，是生產集成電路掩碼的寶貴工具。