二手 ETEC Mebes 4000 #9412599 待售

ETEC Mebes 4000是一種先進的口罩產生和生產設備，用於制造亞微米電子和基於MEMS的元件。它具有高精度晶圓曝光系統、自動晶圓打印單元和高分辨率光掩模檢測機。先進的晶圓曝光工具允許對曝光區域進行精確和可重復的平版印刷圖樣和成像。該資產包括一個高分辨率衍射圖樣和螺旋槳，能夠準確控制邊緣邊界和圖樣方向的暴露。曝光過程中非常精細的準確性和可重復性有助於減少成像過程中出錯的可能性。自動晶圓打印模型是一種完全集成和自動化的晶圓打印設備，能夠快速、高分辨率地打印並準確地將成品圖案放置在基板上。該系統具有最先進的自我對齊蒙版對齊單元,確保打印圖樣的精確打印和放置。最後，Mebes 4000中包含的高分辨率光掩模檢測機允許檢查成品光掩模是否有任何錯誤或缺陷。光掩模可以以不同的放大率和光強度進行檢查，從而能夠精確檢測缺陷。總之,ETEC Mebes 4000為亞微米電子產品和基於MEMS的組件提供了高級掩碼生成和生產功能。它將高分辨率衍射圖樣和prober、自動化晶圓打印工具以及高分辨率的光掩模檢查功能整合到高度可重復、精確和集成的資產中。