二手 ETEC Mebes 4500-5500 #9081928 待售

ETEC Mebes 4500-5500是為大批量、高質量的光掩模制造工藝而設計的掩模生成和生產設備。該系統利用電子束和光學成像技術創建高分辨率光掩模。該單元的核心是它的高分辨率電子束寫入（EBW）機器，它利用一個自動化的電子束柱來生成設備制造中使用的光掩碼。E-Beam工具的最大掃描速度高達1000萬點/秒,使用的光束大小為6到30 nm。這允許創建具有提高分辨率和減少粒子汙染能力的極其精確的光掩模。此外,該資產還配備了自動Vamis DLP（數字光處理）光學曝光單元,支持標準光刻分辨率級別（5 µm min）和多種增強分辨率。Mebes 4500-5500除了具有高分辨率功能外,還具有多項旨在提高速度和生產率的功能。其中包括先進的機器人基板處理模型、可調節的激光制導定位設備，以及具有自動檢查和手動掃描能力的快速光掩模檢查系統。總體而言,ETEC Mebes 4500-5500是一個極其先進和可靠的口罩生成和生產單元,可提供精確、速度和精度。它的特點使它能夠創造出符合嚴格規格的高質量光掩模，並將顆粒汙染降至最低。這使其成為大容量應用程序的理想選擇,並且是升級制造過程中光刻功能的經濟高效的解決方案。