二手 ETEC Mebes 4500-5500 #9081929 待售

ETEC Mebes 4500-5500是一款創新的口罩產生和生產設備。這種堅固的掩模生產系統提供了用於微米或亞微米光刻的自動化高分辨率光掩模。它為淺層溝槽隔離、互連開發和生產線IC制造後端等過程提供優質的CD均勻性和無缺陷的掩碼。該單元提供了一系列支持靈活和經濟高效生產的功能。其中包括高速激光掃描儀和工作室，可實現高分辨率和高精度的掩模對準；一種軟件控制的蝕刻機，可制造具有高CD均勻性和優越圖樣均勻性的口罩；完全可編程的沖壓和成形工具,能夠高效、精確地制作最終的遮罩模式；一個晶圓處理程序，能夠可靠的掩碼處理和存儲。Mebes 4500-5500利用先進的計算機控制軟件資產，提供高效的實時監控。這種精密的模型允許用戶監控和控制整個生產過程，包括工藝參數、面罩布局驗證和有缺陷的材料篩選。此外，設備還提供了高效的晶片清洗過程，確保在對準過程開始之前保持清潔和一致的掩模表面。該系統為用戶提供了一系列好處,包括優化生產效率、高產量、提高晶圓的產量均勻性、顯著減少與掩模相關的缺陷以及增加產品收入。再者，該單元還可用於為廣泛的技術生產優化的模式解決方案，如先進的內存產品、微機電系統、集成電子等。最後,ETEC Mebes 4500-5500是一種先進的光掩模生產機器,它為用戶提供了許多強大的功能,以產生經濟高效、高分辨率的掩模模式。這種精密工具提供了可靠、高質量的結果，是許多半導體制造過程的寶貴工具。