二手 ETEC Mebes 4500 #9087972 待售

ETEC Mebes 4500是為亞微米範圍（從0.35µm到10µm）的高質量光刻應用而設計的口罩生成和生產設備。此掩碼生成系統為各種應用程序（如DRAM、SRAM、Flash、ASIC和模擬/數字IC）提供卓越的性能。該單元由兩個獨立的模塊組成，它們一起處理和生成掩碼。第一個模塊Mebes 4500 Mask Generator提供高精度的Mask Pattern發生器，以支持各種基材和復雜設計的先進生產要求。Generator配備了幾層電子元件,可為各種制造工藝生成像素完美的掩碼。Generator提供了可調工藝參數、輪廓補償和獨特的「標記和測量」算法等功能。第二個模塊，ETEC Mebes 4500 Mask Production Machine，是工具的自動化生產側。它旨在利用其綜合計量和圖像處理系統使口罩的生產自動化。使用此資產,操作員可以檢測蒙版上的缺陷並在打印前進行更正。此外，它還具有許多自動檢查和質量控制機制，旨在確保口罩的生產達到高標準。Mebes 4500型號為光刻生產提供了多種優勢。例如，設備的加工和生產是快速和準確的，提供精確和可重復的光刻工藝。此外,它還配備了許多基於軟件的工具來創建自定義掩碼,並優化生產過程。自動檢查和質量控制功能還有助於減少生產時間和提高準確性。總體而言,ETEC Mebes 4500系統是亞微米光刻生產的理想設備.憑借其精確的生成和生產能力,該機器為各種IC設計提供了高質量的口罩和優化的生產過程。