二手 ETEC Mebes 4500 #9087987 待售

ETEC Mebes 4500是為生產光掩模而設計的掩模生成和生產設備，是集成電路制造中非常重要的部件。該系統由幾個組件組成,包括激光掃描儀、電源、計算機輔助設計（CAD）軟件和真空輔助支架。激光掃描儀利用E-Beam技術，利用電子束來定義光掩模的形狀。由於電子束非常精確的聚焦和轉向能力，這一過程非常精確。此外，激光掃描儀可以產生特征尺寸很小、幾何形狀復雜的掩模。電源負責提供生產光掩模所需的電源。這種電源有兩種形式：直流電（DC）和射頻（RF）。直流功率用於在光電導體表面上產生電荷，然後用於將設計繪制到光掩模上。RF功率用於創建「等離子體蝕刻」過程，用於使掩模圖樣更永久。Mebes 4500單元中使用的計算機輔助設計（CAD）軟件非常先進且用途廣泛。它可用於生成各種光掩模設計和修改現有設計。CAD軟件還允許處理功率和波長等參數，這些參數可用於創建具有特定電氣規格的光掩碼。最後，真空輔助支架允許在蝕刻過程中將光掩模固定到位，這是確保在生產過程中正確放置掩模所必需的。總體而言，ETEC Mebes 4500是一款高度先進和可靠的口罩生成和生產機器。它具有高精度和小尺寸特性，非常適合生產光掩模，是集成電路制造的重要組成部分。其通用的計算機輔助設計（CAD）軟件允許修改光掩模設計,並且真空輔助支架可確保在生產過程中正確放置口罩。