二手 ETEC Mebes 4500 #9087989 待售

ETEC Mebes 4500是一款最先進的口罩產生和生產設備，專為制造集成電路器件而設計。該系統具有優越的廣域光刻工具和高速光束寫入器,可用於創建尺寸高度精確的掩模。該單元的核心是一個以真空為基礎的平臺，允許最多放置五個蒙面寫作者。這些寫入器支持高達16nm的分辨率,並且字段大小為100 mm x 150 mm。專用光學器件和傳感器使機器能夠創建極精細細節的蒙版。Mebes 4500配備了光束寫入器和照片超光刻技術。它利用計算機生成的圖樣和激光束，創造出比傳統技術更高精度和更精細分辨率的金屬化邊緣。它還包含了專有的透鏡系統,以減少像差並提供更好的曝光均勻性。該工具支持多種材料，包括抗蝕劑類型、介電材料和其他先進材料。復雜的掩碼寫入器可用於創建復雜的特征,而其他高級技術（如弧線縫合和T-Hill求解器）則確保將所需的特征放置忠實地轉移到基板上。ETEC Mebes 4500提供具有自動化功能的先進控制系統和硬件組件。該資產具有易於使用的圖形用戶界面,以及數據傳輸鏈接和WLAN連接,允許用戶直接從Design House發送作業文件。該模型還附帶了廣泛的面具書寫策略庫，為用戶提供了全套資源，以確保最大的生產效率。Mebes 4500是要求最高精度的操作的理想選擇。該設備的設計目的是提供最大的生產率和最大的效果，最小的模具刮擦，出色的過程穩定性和一致的蒙版質量。技術的結合和行之有效的成功歷史使該系統成為工業口罩書寫和生產的完美解決方案。