二手 ETEC Mebes 4500 #9087990 待售

ETEC Mebes 4500是一款高性能的口罩生成和生產設備，配有一套綜合的工具，用於產生和生產光口罩。它為各種半導體項目提供功能,如處理器、數字信號處理、內存、模擬混合信號和高速邏輯。Mebes 4500具有用於口罩生成和生產的集成系統,支持高級口罩布局服務。它還包括功能強大的掩碼設計數據庫和功能強大的掩碼檢查功能。該裝置是完全自動化的，旨在實現快速的掩模開發和高效率的生產吞吐量。該機器提供具有高級檢查和測量功能的可選掩碼寫入工具（MPC模擬器）和掩碼檢查資產,如像素含量分析、自動缺陷檢測、故障隔離和光學成像功能。這使用戶能夠快速創建準確且高質量的掩碼,並且與操作員的交互最少。ETEC Mebes 4500還配備了先進的光刻工具，旨在提供極其精確的結果。ETEC設計平臺提供高速光刻能力，采用可調曝光劑量、受控偏振照明、降低散焦效應等最新技術。該平臺還包括用於優化光刻工藝的高級模擬功能。Mebes 4500還采用自動掩碼操作模型進行設計,以確保操作的一致性和可靠性。該設備為掩模制造和檢查、布線、布局優化、設計規則檢查和驗證提供了強大的工具。它還為自動化任務提供功能強大的軟件應用程序和分析程序,例如指定光刻參數、模擬、自動擬合和OPC。此外,ETEC Mebes 4500還提供了一套廣泛的高級掩碼制造、測試和後處理功能。該系統還采用了復雜的數據處理和數據管理工具,使用戶能夠在整個掩碼生產過程中快速、輕松地跟蹤掩碼數據。總體而言,Mebes 4500是一個全面的設備,它提供了創建和生產準確、高質量的光掩碼的高級功能。它采用了最先進的光刻工具，支持先進的掩模布局服務和光刻模擬。它還提供自動掩碼操作和數據管理工具,以及一套高級掩碼制造、檢查和後處理功能。因此，它是各種半導體項目的理想解決方案。