二手 ETEC Mebes 4500 #9088020 待售

ETEC Mebes 4500是為工業級光掩模生產而設計的高精度掩模產生和生產設備。采用多層沈積工藝，能夠生產出分辨率更高的口罩。該系統具有三軸平移級準確定位基板和靜止、高分辨率的基板灰度級。這項技術可以精確地形成多個抗蝕層，在基板上有精確的位置和方向。Mebes 4500配備了集成的晶圓處理工具。該工具允許將光掩模以低至0.25微米的分辨率直接打印到所需材料上。它具有極高的吞吐量，允許大量的口罩快速生產。ETEC Mebes 4500能夠產生廣泛的標準標線和客戶指定的標線形狀,以及反向和正向模式。不同的圖案可以以不同的精度水平曝光，這對於工業級口罩的生產是必不可少的。該設備還具有高級驗證測試功能,以確保產品質量。Mebes 4500的控制機由一個主處理器、多個從處理器和一個可編程邏輯控制器組成。此設計可確保高可靠性和快速操作,從而使流程自動化,而操作員的幹預最少。該工具還配備了廣泛的配件，如掃描儀和照相機系統，以利於高效的檢查和工藝優化。總之，ETEC Mebes 4500是一種可靠、能幹的生產資產，提供高精度和提高效率。操作方便，能以更高效、更具成本效益的方式生產出高品質的口罩。