二手 ETEC Mebes 4500 #9396894 待售

ETEC Mebes 4500是一種口罩產生和生產設備，允許大量生產用於制造半導體的高精度光掩模。它采用了基於激光的最新直接書寫技術，能夠以無與倫比的精度和可重復性實現復雜特征的超高速書寫。這一尖端系統能夠產生多種復雜的遮罩圖案，尺寸從3 μ m到50 μ m以上不等。Mebes 4500具有四個激光曝光頭、二維成像以及地址頭、標線級和晶圓/掩模級的運動控制。這樣可以確保根據所需的精度要求對掩模圖樣進行精確的寫入、成像、對齊和均勻化操作。此外,該單元還包含一個標線過程優化算法,該算法通過在initically指定的模式序列期間進行調整來提供一致的、可重復的結果。ETEC Mebes 4500的高精度和高度可重復的掩模制造工藝確保了最復雜的設計和最先進的光刻工藝能夠實現。這臺功能強大的機器能夠生產分辨率高達5000個曝光角度的口罩,比傳統的照片口罩好6倍。它還擁有令人印象深刻的速度，產生口罩的速度比替代技術快40倍。還包括了許多先進的檢測能力，如缺陷圖分析、ASML點大小控制和高通量晶圓檢測。該工具還支持用於3D結構的晶圓背面操作以及用於超大型掩碼的專有圖像分割/合並處理。Mebes 4500是口罩制造商的理想解決方案,它產生的高精度口罩可重復性遠遠優於任何其他資產。它的激光書寫過程確保了最復雜、最先進的遮罩圖樣的生產無與倫比的精度和速度。