二手 MICRONIC 6D-2V #9259005 待售

MICRONIC 6D-2V Mask Generation&Production Equipment是一種高性能的半導體器件制造解決方案。6D-2V系統設計用於1至6微米的矽基工藝和應用。它配備了優越的6軸生產平臺，保證了產量和吞吐量的最高精度和精確度。它具有獨特的掩模對準平臺和可獨立調節的高級模式對準階段、用於精確定位掩模的高精度掃描單元以及用於處理多個硬件和軟件應用程序的高速掩模對準控制器。MICRONIC 6D-2V機提供了多種功能，旨在增強大容量半導體制造商的運營。它配備了單級晶片到掩模工具，用於工作晶片的直接成像。此功能允許直接成像最大尺寸為50 mm的設備,而無需任何外部跟蹤。它還提供了獨特的雙級晶片到掩碼資產,能夠為最大尺寸為200 mm的光掩碼生成穩定的高分辨率掩碼。使用高帶寬、低噪聲高壓放大器，6D-2V模型通過高效、精確的圖樣圖像平移，可實現4微米的曝光精度。改進的光路確保了可靠的吞吐量和最小的返工。其先進的光學設備還提供了每幀高達2000個曝光步驟的廣泛動態範圍,並具有卓越的像差性能。MICRONIC 6D-2V系統還提供集成的抗反射塗層（ARC）層功能,以確保最高的掩模分辨率和成像精度。它還配備了合規的多層掩模合並，以降低多層成像和檢查的成本。多層掩碼合並還可確保各層之間的準確定位和正確對齊。6D-2V單元還為2D和3D口罩提供了高速、低噪聲的高速口罩檢查機。它支持光學圖像檢測、邊緣檢測、點線圓檢測、假圖樣圖像檢測等多種形式的檢測報告。利用其高精度對準工具，可以完美實現模式間的配準。MICRONIC 6D-2V資產還配備了各種附加附件,包括存儲機櫃、多站吸塵器、模式對準調整手動設備、用於口罩對準和維護的工具包以及產品可追蹤性模型。它還提供了一個可靠的自動對準單元，允許掩碼對準與速度和準確性進行。6D-2V超低熱漂移和低振動構造也確保了一個完美的穩定性在長期。MICRONIC 6D-2V設備具有高精度光學、圖案化掩模配準和自動化能力，是領先的掩模生產系統。它為大容量半導體生產提供了出色的分辨率、吞吐量、精度和準確性。