二手 MICRONIC Mach 2 #9258989 待售

MICRONIC Mach 2口罩的生成和生產設備是一種通用、高精度的設備系統,能夠為微電子應用創建各種物理口罩。該單元采用光刻和電子束（e-beam）技術，在基板上和通過基板產生和處理口罩。它為原型制作、高產面膜生產和QC/QA操作提供了必要的靈活性和精度。Mach 2具有300 mm晶片級,可使遮罩工作表面沿著機器上的x、y和z軸移動。導航工具精度為0.1 μ m,行進速度高達140 mm/s。它具有標準、多掩碼和多步方法的能力。2kW離子源和6軸定位資產允許將各種設備陣列化為直徑不超過6英寸的掩碼。離子源在使用CF4或Ar離子蝕刻工藝時提供最佳劑量控制。利用自動精密晶片對準模型，MICRONIC Mach 2能夠實現多步對準和生產高達150 mm尺寸的掩模。2馬赫可用於在單個基板上創建分辨率高達0.35 μ m的物理圖像和最大500 μ m的特征大小。為了進行比較和QC/QA過程,MICRONIC Mach 2還將生產掩碼圖像輸出為數字位圖（DFT-files）。2馬赫正在使口罩的生成和生產更快、更高效、更精確。利用先進的光刻技術和電子束技術，提供了快速的吞吐量和一貫的高精度生產光刻圖案的蒙版。而其處理大工區的能力使其適合原型、生產QA/QC工藝等應用。