二手 QUANTRONIX DRS 840 #9396110 待售

QUANTRONIX DRS 840是一款高性能的口罩產生和生產設備。它是為先進的顯微光刻應用而設計的，包括面罩基板和結構的檢驗、表征和制造。該系統能夠產生各種光掩模,從標準的單層掩模到具有精確配準和臨界覆蓋精度的多層掩模系統。DRS 840是工業規模微光刻的經濟高效解決方案,具有優化吞吐量和降低成本的智能功能。該單元與QUANTRONIX創新套件集成了掩模創作、掩模檢查和計量工具。這包括一臺功能強大且自動化的掩碼創作機器,該機器具有用於精確生成光掩碼的高級陣列算法。它配備了一個高度敏感的自動掩模檢測站，以快速識別光掩模中的缺陷，以及一個最先進的計量工具，用於深入分析低至亞微米尺度的結構。所有這些元素使用直觀的圖形用戶界面易於操作和控制。QUANTRONIX DRS 840允許廣泛的光掩模基板和圖樣，包括EAA、正、負和MDO（多維OPC）。資產還可以處理範圍廣泛的現貨尺寸,從250 nm到25 μ m。該模型包括一個集成的真空卡盤，允許快速和容易蒙版加載和卸載。它還配備了內置的流程監視器，以確保流程的一致性和可重復性。DRS 840旨在提供一致和可靠的生產過程。它提供2.5秒的快速曝光時間,並配備了自動聚焦和自動校準功能,以確保準確曝光。它還包括一個在線激光監測設備，不斷測量激光功率水平和光束質量，並報告任何退化或其他潛在問題。QUANTRONIX DRS 840旨在最大限度地減少浪費、降低成本和優化吞吐量。它提供了自動掩模級基板控制、自動曝光重復性和自動汙染檢測功能。它還包括一套高度可配置的軟件工具，允許用戶模擬曝光和分析復雜的光掩碼模式。該系統具有工藝控制能力，為用戶提供了針對不同材料和基材需求定制工藝的靈活性。DRS 840是先進光掩模生產的絕佳選擇。其先進的特性和精密的自動化使得它成為任何工業規模的顯微光刻操作的理想選擇。它提供了生產復雜的光掩模所需的精確度和可靠性,並確保了準確和可重復的生產結果,同時還為工業規模應用提供了經濟高效的解決方案。