二手 TAMARACK 162D #9130935 待售

TAMARACK 162D
製造商
TAMARACK
模型
162D
ID: 9130935
晶圓大小: 6"
Double sided mask aligner, 6" Typically for hybrids Max intensity: 70 mj/cm² Resolution: 25-35 microns Inverted split field microscope (2) Power supplies: 1000 Watts (2) Lamps: 1000 Watts Does not include mask / Substrate holders.
TAMARACK 162D是MOCVD Mask Technologies為大批量生產而設計的綜合口罩生成和生產設備。它具有復雜的電子束光刻應用的先進設計,具有廣泛的掩模生成特性。該系統采用先進的步長和重復掩碼生成級,具有精確的電機驅動的XYZ對準和激光對準的目標點。這樣可確保在每個階段都能準確復制掩碼。掩碼生成軟件支持對具有高級分辨率功能的功能進行CAD級操作。這為用戶提供了出色的控制和精確的蒙版設計。軟件還支持錯綜復雜的線條間距和多層特征細節等高級復雜性設計。該機利用高通量工藝產生最精密的掩模圖案。它包括快速掃描時間和高分辨率階段等功能,這些功能允許大規模的掩碼陣列。這包括全自動光學定位單元和可變步長等功能。該機支持廣泛的曝光,包括激光透鏡和電子束。這樣可以保證不同的曝光時間和準確性,同時確保最高質量的結果。此外,它還提供多個級別的保護環境和對過程的控制。蒙版生成階段支持高達12級/自由度的蒙版,以及最小線寬為5微米的0.25微米的精確特征放置。對於口罩生產,它支持多種背襯和基材材料,並具有全光譜的口罩尺寸。該設計還支持多種背面功能。162D專為高速、高分辨率和高批量生產而設計。它的功能為口罩生產提供了經濟高效的制造解決方案,這使其成為希望迅速提高口罩生產能力的公司的理想選擇。其先進的設計和處理功能為用戶提供了靈活性和控制性,以實現其蒙版設計的高精度和準確性。
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