二手 ZEISS CDC32 #9386127 待售
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ZEISS CDC32是一種先進的掩模產生和生產設備，主要用於半導體芯片制造。它被設計為提供精確的圖樣和臨界叠加精度，使高性能設備的生產具有高產率。其特點包括可直接制圖的波長選擇激光源、先進的制造和掩蔽技術以及自動化的設備管理和過程監控。蔡司CDC 32系統有三個主要組成部分；直接寫入光刻單元，面罩制作和計量機，以及機器自動化工具。直接寫入光刻資產是模型的基礎，並利用準分子脈沖激光技術在並行結構中直接對芯片晶片進行陣列繪制。這種激光器允許的高能量允許它以5-20nm的精度繪制500 nm的結構。此分辨率非常精確,因此當與現代三維（3D）處理器設計配合使用時,它允許使用復雜的內存體系結構。面罩制作和計量設備同樣重要，因為它使創建光面罩的整個過程自動化。它使用最先進的光學斷層掃描模塊，高速處理整個光掩模的計量圖像。然後,此模塊對光掩碼進行圖樣繪制和測量,以確保掩碼符合設計要求。一旦設計得到驗證，系統就被送到生產站進行打印。自動化設備管理單元可確保整個機器以最高效率運行,並完全符合設計規範。它定期自動控制清潔工具，並安排定期校準計量儀器、面罩制作機器和激光。CDC32資產提供了最高水平的設計和陣列精度,使復雜的高性能設計能夠以最高的精度進行生產。它是尋求可靠高效的掩模生成和生產模型的芯片制造商的理想選擇。
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